@article { author = {Mohri, Maryam}, title = {The crystallization study of glassy thin film Ti-base alloy}, journal = {Metallurgical Engineering}, volume = {22}, number = {1}, pages = {12-20}, year = {2019}, publisher = {Iranian Metallurgical Engineers}, issn = {1563-1745}, eissn = {}, doi = {10.22076/me.2019.98892.1221}, abstract = {Amorphous Ti45Cu35Zr15Sn5 (at.%) thin-films metallic glass was prepared by non-reactive magnetron sputtering in pure argon at room temperature. The microstructural evaluation shows that the as-deposited thin films have a glassy structure. In this paper, the kinetics of isochronal and isothermal differential scanning calorimetry of Ti45Cu35Zr15Sn5 amorphous alloy was analyzed to understand the mechanism of crystallization. The crystallization process constituted of two exothermic transformations occurring from 723 to 863 K. The activation energy of the crystallization was obtained by the Kissinger-kahira-Sunose method. The results show that the activation energy of the Ti45Cu35Zr15Sn5 film for the first and the second crystallization steps were 370 and 300 kJ/mol, respectively. In the case of isothermal crystallization, the crystallization kinetics was modeled by the Johnson–Mehl–Avrami-Kolmogorov (JMAK) equation. The Avrami exponents were calculated to be about 2. The local Avrami exponents indicating that the crystallization mechanism of Ti45Cu35Zr15Sn5 freestanding thin films is three-dimensional growth with either a decreasing nucleation rate.}, keywords = {Thin film,Crystallization,metallic glass,Ti-Cu-Zr-Sn}, title_fa = {بررسی رفتار و سینتیک بلوری شدن لایه نازک آلیاژ شیشه ای پایه تیتانیم}, abstract_fa = {لایه نازک با ترکیب شیمیایی Ti45Cu35Zr15Sn5 بوسیله روش کندوپاش مغناطیسی جریان مستقیم در اتمسفر آرگون و در دمای محیط تهیه گردید. بررسی ریزساختار توسط پراش اشعه ایکس و میکروسکوپ الکترونی عبوری حاکی از وجود ساختار آمورف در لایه های نازک پس از کندوپاش می باشد. در این مقاله رفتار و سینتیک بلوری شدن لایه نازک شیشه ای با استفاده از آنالیز گرماسنجی روبشی تفاضلی بصورت همدما و غیرهمدما مورد بررسی قرار گرفته است. بررسی آنالیر حرارتی غیرهمدما در سرعتهای گرمایش مختلف حاکی از بلوری شدن دومرحله ای لایه نازک است. با افزایش نرخ گرمایش دماهای بلوری شدن افزایش می یابد و منطقه فوق تبرید کاهش می یابد. محاسبه انرژی اکتیواسیون محلی نشان می دهد که کسرحجمی بلوری شده بر روی مقدار انرژی فعالسازی موثر می باشد. بیشترین مقدار انرژی فعالسازی مربوط به مرحله ابتدایی فرآیند است و با افزایش کسر بلوری شده کاهش می یابد و در مرحله پایانی انرژی فعالسازی ناگهان کاهش می یابد. همچنین منحنی های کسر بلوری شده بر حسب دما برای همه نرخهای گرمایش به صورت سیگمودال می باشد که نشان می دهد، بلوری شدن لایه نازک از طریق فرآیند جوانه زنی و رشد رخ می دهد و بررسی توان اورامی محلی در بلوری شدن همدما، بیانگر این است که مکانیزم بلوری شدن رشد نفوذی دو یا سه بعدی همراه با کاهش نرخ جوانه زنی می باشد.}, keywords_fa = {لایه نازک,فلزات شیشه ای,آلیاژ Ti45Cu35Zr15Sn5,بلوری شدن}, url = {https://www.metalleng.ir/article_36398.html}, eprint = {https://www.metalleng.ir/article_36398_ee74795429a00b47a41c1996d7ed242e.pdf} }